еНаука - преглед
Преглед према Аутор C. Marchiori
Приказ резултата 1 до 1 од 1
| Година | Наслов | Аутор(и) | Тип резултата | Мп-кат. |
|---|---|---|---|---|
| 2015 | Low Dit HfO2/Al2O3/In0.53Ga0.47As gate stack achieved with plasma-enhanced atomic layer deposition | V. Djara; M. Sousa; N. Đorđević; L. Czornomaz; V. Deshpande; C. Marchiori; E. Uccelli; C. Rossel; J. Fompeyrine | Научни чланак | 22M22 - Међународни часопис категорије M22 |