eNauka - pregled
Pregled prema Autor C. Marchiori
Prikaz rezultata 1 do 1 od 1
| Godina | Naslov | Autor(i) | Tip rezultata | Mp-kat. |
|---|---|---|---|---|
| 2015 | Low Dit HfO2/Al2O3/In0.53Ga0.47As gate stack achieved with plasma-enhanced atomic layer deposition | V. Djara; M. Sousa; N. Đorđević; L. Czornomaz; V. Deshpande; C. Marchiori; E. Uccelli; C. Rossel; J. Fompeyrine | Article | 22M22 |