Results
Title  : | Efekti radikala u modeliranju plazmi korišćenih za nagrizanje u mikroelektronici Modeling of the effect of radicals on plasmas used for etching in microelectronics |
Authors: | Nikitović, Željka   ; Jovanović, Jasmina ; Cvelbar, Uros; Mozetic, Miran; Stojanović, Vladimir |
Issue Date: | 2016 | Publication: | FME Transactions | ISSN: | 1451-2092 FME Transactions Search Idenfier |
Publisher: | Univerzitet u Beogradu - Mašinski fakultet, Beograd | Type: | Article | Collation: | vol. 44 br. 1 str. 105-108 | DOI: | 10.5937/fmet1601106n | WoS-ID: | 000408080600015 | Scopus-ID: | 2-s2.0-84976877512 | URI: | https://enauka.gov.rs/handle/123456789/304768 https://machinery.mas.bg.ac.rs/handle/123456789/2361 |
Project: | Фундаментални процеси и примене транспорта честица у неравнотежним плазмама, траповима и наноструктурама Bilateral project 'Meritve plazemskih parametrov v kapacitivnih in induktivnih RF razelektritvah' (410011) |
Metadata source: | Migracija | M-category: | 24M24 |