Резултати
еНаука >
Резултати >
Characterisation of SiOx thin films deposited by remote high density atomic oxygen plasma source
| Назив: | Characterisation of SiOx thin films deposited by remote high density atomic oxygen plasma source | Аутори: | Stefanović, Ilija   ; Awakowicz, Peter; Porteanu, Horia-Eugen; Klute, Michael; Brinkmann, Ralf-Peter |
Година: | 2025 | Публикација: | 21. Fachtagung f¨ur Plasmatechnologie = 21. Plasma Technology Conference, September, 23 – 25, 2025, Kiel University, Faculty of Engineering | Издавач: | Kiel : Kiel University Faculty of Engineering | Тип резултата: | Конференцијски рад | Колација: | str. 50-50 | URI: | https://dais.sanu.ac.rs/123456789/18632 https://enauka.gov.rs/handle/123456789/1019623 |
Пројекат: | Ministarstvo nauke, tehnološkog razvoja i inovacija Republike Srbije, institucionalno finansiranje - 200175 (Institut tehničkih nauka SANU, Beograd) DFG project 389090373 |
М-категорија: | Мп категорија ће бити приказана накнадно. |
Google ScholarTM