Measurement of etch rate for SiO2 single crystal treated with DC-plasma

Milosavljević, Vladimir; Popović, Dušan; A. Jesenko

Резултати

еНаука > Резултати > Measurement of etch rate for SiO2 single crystal treated with DC-plasma

Назив:	Measurement of etch rate for SiO2 single crystal treated with DC-plasma
Аутори:	Milosavljević, Vladimir ; Popović, Dušan ; A. Jesenko
Година:	2010
Публикација:	Proc. 25th Summer School and International Symposium on the Physics of Ionized Gases/Publ. Astron. Obs. Belgrade
ISSN:	0373-3742 Претражи идентификатор
Издавач:	Faculty of Physics Univ. Belgrade / Astron. Obs. Belgrade, Donji Milanovac, Serbia
Тип резултата:	Конференцијски рад
Колација:	vol. 89 str. 293-296
URI:	https://enauka.gov.rs/handle/123456789/123095
URL:	http://webhost.rcub.bg.ac.rs/~spig2010/Book/091.pdf
Извор метаподатака:	Migrirano iz RIS podataka
М-категорија:	Мп категорија ће бити приказана накнадно.

Пронађи DOI

Проналажење DOI у сервису CrossRef-у на основу мета-података у запису. Приказаће се DOI (и метаподаци) чији се подаци највише поклапају. ОПРЕЗ - то не мора бити та публикација.

Google Scholar^TM

Резултати на еНаука су заштићени ауторским правима и сва права су задржана, осим ако није другачије назначено.