Measurement of etch rate for SiO2 single crystal treated with DC-plasma

Milosavljević, Vladimir; Popović, Dušan; A. Jesenko

Резултати

eNauka > Rezultati > Measurement of etch rate for SiO2 single crystal treated with DC-plasma

Naziv:	Measurement of etch rate for SiO2 single crystal treated with DC-plasma
Autori:	Milosavljević, Vladimir ; Popović, Dušan ; A. Jesenko
Godina:	2010
Publikacija:	Proc. 25th Summer School and International Symposium on the Physics of Ionized Gases/Publ. Astron. Obs. Belgrade
ISSN:	0373-3742 Pretraži identifikator
Izdavač:	Faculty of Physics Univ. Belgrade / Astron. Obs. Belgrade, Donji Milanovac, Serbia
Tip rezultata:	Konferencijski rad
Kolacija:	vol. 89 str. 293-296
URI:	https://enauka.gov.rs/handle/123456789/123095
URL:	http://webhost.rcub.bg.ac.rs/~spig2010/Book/091.pdf
Izvor metapodataka:	Migrirano iz RIS podataka
M-kategorija:	Mp kategorija će biti prikazana naknadno.

Pronađi DOI

Pronalaženje DOI u servisu CrossRef-u na osnovu meta-podataka u zapisu. Prikazaće se DOI (i metapodaci) čiji se podaci najviše poklapaju. OPREZ - to ne mora biti ta publikacija.

Google Scholar^TM

Rezultati na eNauka su zaštićeni autorskim pravima i sva prava su zadržana, osim ako nije drugačije naznačeno.