Резултати
еНаука >
Резултати >
Effects of consecutive irradiation and bias temperature stress in p-channel power vertical double-diffused metal oxide semiconductor transistors
![](https://cdn3.iconfinder.com/data/icons/flat-actions-icons-9/512/Tick_Mark-256.png)
Назив: | Effects of consecutive irradiation and bias temperature stress in p-channel power vertical double-diffused metal oxide semiconductor transistors | Аутори: | Davidović, Vojkan ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() |
Година: | 2018 | Публикација: | Japanese Journal of Applied Physics | ISSN: | 0021-4922![]() ![]() |
Издавач: | Japan : Institute of Pure and Applied Physics | Тип резултата: | Научни чланак | Колација: | vol. 57 br. 4 str. 044101-044101 | DOI: | 10.7567/jjap.57.044101 | WoS-ID: | 000426931900001 | Scopus-ID: | 2-s2.0-85044411052 | URI: | https://enauka.gov.rs/handle/123456789/283086 | Извор метаподатака: | Migrirano iz RIS podataka | М-категорија: | 23M23 - Рад у међ. часопису |
![](/image/scopus.png)
SCOPUSTM
![](/image/opencitations.png)
OpenCitations
![](/image/wos.png)
WEB OF SCIENCETM
Алт метрика
Dimensions
Unpaywall
Резултати на еНаука су заштићени ауторским правима и сва права су задржана, осим ако није другачије назначено.