Резултати

еНаука >  Резултати >  Analysis of SiO2 thin film deposited by reactive sputtering
Назив: Analysis of SiO2 thin film deposited by reactive sputtering
Аутори: Radović, Ivan  ; Serruys, Y.; Limoge, Y.; Jaoul, O.; Romčević, Nebojša Ž.  ; Poissonnet, S.; Bibić, Nataša M.
Година: 2006
Публикација: Materials Science Forum
ISSN: 0255-5476 Materials Science Forum Претражи идентификатор
Тип резултата: Научни чланак
Колација: vol. 518 str. 149-154
DOI: 10.4028/www.scientific.net/MSF.518.149
WoS-ID: 000239351800026
Scopus-ID: 2-s2.0-37849014254
URI: https://enauka.gov.rs/handle/123456789/338946
https://vinar.vin.bg.ac.rs/handle/123456789/6599
М-категорија: 
23M23 - Рад у међ. часопису

Алт метрика
Dimensions
Unpaywall

Резултати на еНаука су заштићени ауторским правима и сва права су задржана, осим ако није другачије назначено.