Rezultati

eNauka >  Rezultati >  Hf-doped Ta2O5 stacks under constant voltage stress
Naziv: Hf-doped Ta2O5 stacks under constant voltage stress
Autori: Manić, Ivica  ; Atanassova, E.; Stojadinović, Ninoslav ; Spassov, D.; Paskaleva, A.
Godina: 2011
Publikacija: Microelectronic Engineering
ISSN: 0167-9317 Microelectronic Engineering Pretraži identifikator
Tip rezultata: Naučni članak
Kolacija: vol. 88 br. 3 str. 305-313
DOI: 10.1016/j.mee.2010.11.033
WoS-ID: 000287346800018
Scopus-ID: 2-s2.0-78650748824
URI: https://enauka.gov.rs/handle/123456789/436087
Izvor metapodataka: Migrirano iz RIS podataka
M-kategorija: 
21M21 - Vodeći međunarodni časopis kategorije M21

4
SCOPUSTM
4
OpenCitations
5
WEB OF SCIENCETM
Alt metrika
Dimensions
Unpaywall

Rezultati na eNauka su zaštićeni autorskim pravima i sva prava su zadržana, osim ako nije drugačije naznačeno.