Micro-Raman depth profiling of silicon amorphization induced by high-energy ion channeling implantation

Erich, Marko; Petrović, Srđan M.; Kokkoris, Michael; Liarokapis, E.; Antonakos, A.; Telečki, Igor N.

Резултати

еНаука > Резултати > Micro-Raman depth profiling of silicon amorphization induced by high-energy ion channeling implantation

Назив:	Micro-Raman depth profiling of silicon amorphization induced by high-energy ion channeling implantation
Аутори:	Erich, Marko ; Petrović, Srđan M. ; Kokkoris, Michael; Liarokapis, E.; Antonakos, A.; Telečki, Igor N.
Година:	2013
Публикација:	Journal of Raman Spectroscopy
ISSN:	0377-0486 Journal of Raman Spectroscopy Претражи идентификатор 1097-4555 Journal of Raman Spectroscopy Претражи идентификатор
Тип резултата:	Научни чланак
Колација:	vol. 44 br. 3 str. 496-500
DOI:	10.1002/jrs.4211
WoS-ID:	000316966900024
Scopus-ID:	2-s2.0-84875734797
URI:	https://enauka.gov.rs/handle/123456789/444660 https://vinar.vin.bg.ac.rs/handle/123456789/5393
Пројекат:	SPIRIT - Support of Public and Industrial Research using Ion Beam Technology (EU-227012) Fizika i hemija sa jonskim snopovima (RS-45006)
М-категорија:	21M21 - Рад у врхунском међ. часопису

7
SCOPUS^TM

7
OpenCitations

7
WEB OF SCIENCE^TM

Алт метрика

Dimensions

Пронађи DOI

Проналажење DOI у сервису CrossRef-у на основу мета-података у запису. Приказаће се DOI (и метаподаци) чији се подаци највише поклапају. ОПРЕЗ - то не мора бити та публикација.

Unpaywall

Резултати на еНаука су заштићени ауторским правима и сва права су задржана, осим ако није другачије назначено.