Deposition on thin SiO2 layer by reactive sputtering

Radović, Ivan; Serruys, Y.; Limoge, Y.; Milosavljević, Momir; Romčević, Nebojša Ž.; Bibić, Nataša M.

Rezultati

eNauka > Rezultati > Deposition on thin SiO2 layer by reactive sputtering

Naziv:	Deposition on thin SiO2 layer by reactive sputtering
Autori:	Radović, Ivan ; Serruys, Y.; Limoge, Y.; Milosavljević, Momir ; Romčević, Nebojša Ž. ; Bibić, Nataša M.
Godina:	2007
Publikacija:	Optoelectronics and Advanced Materials - Rapid Communications
ISSN:	1842-6573 Optoelectronics and Advanced Materials-Rapid Communications Pretraži identifikator
Tip rezultata:	Naučni članak
Kolacija:	vol. 1 br. 5 str. 247-251
WoS-ID:	000253724700011
URI:	https://enauka.gov.rs/handle/123456789/533314 https://vinar.vin.bg.ac.rs/handle/123456789/3374
M-kategorija:	23M23 - Međunarodni časopis kategorije M23

3
WEB OF SCIENCE^TM

Pronađi DOI

Pronalaženje DOI u servisu CrossRef-u na osnovu meta-podataka u zapisu. Prikazaće se DOI (i metapodaci) čiji se podaci najviše poklapaju. OPREZ - to ne mora biti ta publikacija.

Rezultati na eNauka su zaštićeni autorskim pravima i sva prava su zadržana, osim ako nije drugačije naznačeno.