Резултати

еНаука >  Резултати >  Properties of latent interface-trap buildup in irradiated metal-oxide-semiconductor transistors determined by switched bias isothermal annealing experiments
Назив: Properties of latent interface-trap buildup in irradiated metal-oxide-semiconductor transistors determined by switched bias isothermal annealing experiments
Аутори: Jaksic, Aleksandar B; Pejovic, Momcilo M; Ristic, Goran S  
Година: 2000
Публикација: APPLIED PHYSICS LETTERS
ISSN: 0003-6951 Applied Physics Letters Претражи идентификатор
Тип резултата: Научни чланак
Колација: vol. 77 br. 25 str. 4220-4222
DOI: 10.1063/1.1336159
WoS-ID: 000165824200047
Scopus-ID: 2-s2.0-0346930594
URI: https://enauka.gov.rs/handle/123456789/825449
Извор метаподатака: (Preuzeto iz Nasi u WoS)
М-категорија: 
21a+M21a+ - Водећи међународни часопис категорије M21a+

Алт метрика
Dimensions
Unpaywall

Резултати на еНаука су заштићени ауторским правима и сва права су задржана, осим ако није другачије назначено.