Резултати

eNauka >  Rezultati >  RETRACTION: Optimization of plasma etch rate of deposited thin films by adaptive neuro fuzzy inference system
Naziv: RETRACTION: Optimization of plasma etch rate of deposited thin films by adaptive neuro fuzzy inference system
Autori: Petrovic, Nikola  
Godina: 2024
Publikacija: INTERNATIONAL JOURNAL OF ADVANCED MANUFACTURING TECHNOLOGY
ISSN: 0268-3768 International Journal of Advanced Manufacturing Technology Pretraži identifikator
Tip rezultata: Naučni članak
Kolacija: vol. 134 br. 7-8 str. 3989-3989
DOI: 10.1007/s00170-024-14355-4
WoS-ID: 001311863300014
Scopus-ID: 2-s2.0-85203042516
URI: https://enauka.gov.rs/handle/123456789/934161
URL: https://link.springer.com/content/pdf/10.1007/s00170-024-14355-4.pdf
Izvor metapodataka: (Preuzeto iz Nasi u WoS)
M-kategorija: 
22M22 - Međunarodni časopis kategorije M22

Алт метрика
Dimensions
Unpaywall

Резултати на еНаука су заштићени ауторским правима и сва права су задржана, осим ако није другачије назначено.