Резултати

еНаука >  Резултати >  Role of Atomic Oxygen in High Quality SiOx Thin Film Deposition: Exploring New Chemical Pathways for Polymerization and Surface Treatment
Назив: Role of Atomic Oxygen in High Quality SiOx Thin Film Deposition: Exploring New Chemical Pathways for Polymerization and Surface Treatment
Аутори: Stefanović, Ilija  
Година: 2025
Публикација: Program and the Book of abstracts / Serbian Ceramic Society Conference Advanced Ceramics and Application XIII New Frontiers in Multifunctional Material Science and Processing, Serbia, Belgrade, 8-10th September 2025
Издавач: Belgrade : Serbian Ceramic Society
Тип резултата: Конференцијски рад
ISBN: 978-86-905714-2-0 Претражи идентификатор
Колација: str. 66-66
URI: https://dais.sanu.ac.rs/123456789/18596
https://enauka.gov.rs/handle/123456789/1019093
Пројекат: Ministarstvo nauke, tehnološkog razvoja i inovacija Republike Srbije, institucionalno finansiranje - 200175 (Institut tehničkih nauka SANU, Beograd)
М-категорија: 
Мп категорија ће бити приказана накнадно.

Пронађи DOI


Google ScholarTM

Creative Commons лиценца