Rezultati

eNauka >  Rezultati >  Role of Atomic Oxygen in High Quality SiOx Thin Film Deposition: Exploring New Chemical Pathways for Polymerization and Surface Treatment
Naziv: Role of Atomic Oxygen in High Quality SiOx Thin Film Deposition: Exploring New Chemical Pathways for Polymerization and Surface Treatment
Autori: Stefanović, Ilija  
Godina: 2025
Publikacija: Program and the Book of abstracts / Serbian Ceramic Society Conference Advanced Ceramics and Application XIII New Frontiers in Multifunctional Material Science and Processing, Serbia, Belgrade, 8-10th September 2025
Izdavač: Belgrade : Serbian Ceramic Society
Tip rezultata: Konferencijski rad
ISBN: 978-86-905714-2-0 Pretraži identifikator
Kolacija: str. 66-66
URI: https://dais.sanu.ac.rs/123456789/18596
https://enauka.gov.rs/handle/123456789/1019093
Projekat: Ministarstvo nauke, tehnološkog razvoja i inovacija Republike Srbije, institucionalno finansiranje - 200175 (Institut tehničkih nauka SANU, Beograd)
M-kategorija: 
Mp kategorija će biti prikazana naknadno.

Find the DOI


Google ScholarTM

Creative Commons License