Rezultati

eNauka >  Rezultati >  Influence of charging on SiO2 etching profile evolution etched by fluorocarbon Plasmas
Naziv: Influence of charging on SiO2 etching profile evolution etched by fluorocarbon Plasmas
Autori: Radjenovic, B.; Radmilovc-Radjenovic, M.  ; Petrovic, Z. Lj.  
Godina: 2007
Publikacija: Materials Science Forum
ISSN: 0255-5476 Materials Science Forum Pretraži identifikator
Tip rezultata: Konferencijski rad
Kolacija: vol. 555 str. 53-58
DOI: 10.4028/www.scientific.net/MSF.555.53
WoS-ID: 000249653700008
URI: https://vinar.vin.bg.ac.rs/handle/123456789/6584
https://enauka.gov.rs/handle/123456789/200810
Projekat: Ministry of Science and Environmental Protection of the Republic of Serbia
M-kategorija: 
Mp kategorija će biti prikazana naknadno.

4
OpenCitations
4
WEB OF SCIENCETM
Alt metrika
Dimensions
Unpaywall

Google ScholarTM

Rezultati na eNauka su zaštićeni autorskim pravima i sva prava su zadržana, osim ako nije drugačije naznačeno.