Influence of charging on SiO2 etching profile evolution etched by fluorocarbon Plasmas

Results

Назив:	Influence of charging on SiO2 etching profile evolution etched by fluorocarbon Plasmas
Аутори:	Radjenovic, B.; Radmilovc-Radjenovic, M. ; Petrovic, Z. Lj.
Година:	2007
Публикација:	Materials Science Forum
ISSN:	0255-5476 Materials Science Forum Претражи идентификатор
Тип резултата:	Конференцијски рад
Колација:	vol. 555 str. 53-58
DOI:	10.4028/www.scientific.net/MSF.555.53
WoS-ID:	000249653700008
URI:	https://vinar.vin.bg.ac.rs/handle/123456789/6584 https://enauka.gov.rs/handle/123456789/200810
Пројекат:	Ministry of Science and Environmental Protection of the Republic of Serbia
М-категорија:	Мп категорија ће бити приказана накнадно.

4
OpenCitations

4
WEB OF SCIENCE^TM

Altmetric

Dimensions

Unpaywall

Google Scholar^TM