Резултати

еНаука >  Резултати >  3D Etching profile evolution simulations: Time dependence analysis of the profile charging during SiO2 etching in plasma
Назив: 3D Etching profile evolution simulations: Time dependence analysis of the profile charging during SiO2 etching in plasma
Аутори: Radjenovic, Branislav  ; Radmilovic-Radjenovic, Marija  
Година: 2007
Публикација: Journal of Physics: Conference Series
ISSN: 1742-6588 Претражи идентификатор
Тип резултата: Конференцијски рад
Колација: vol. 86 str. 012017-012017
DOI: 10.1088/1742-6596/86/1/012017
WoS-ID: 000256282900017
Scopus-ID: 2-s2.0-36349033424
URI: https://enauka.gov.rs/handle/123456789/361474
https://vinar.vin.bg.ac.rs/handle/123456789/6757
Пројекат: TESLA, Ministry of Science and Environmental Protection
М-категорија: 
Мп категорија ће бити приказана накнадно.

7
SCOPUSTM
7
OpenCitations
8
WEB OF SCIENCETM
Алт метрика
Dimensions

Пронађи DOI

Unpaywall

Google ScholarTM

Резултати на еНаука су заштићени ауторским правима и сва права су задржана, осим ако није другачије назначено.