Резултати

еНаука >  Резултати >  Electrical and Charge Trapping Properties of HfO2/Al2O3 Multilayer Dielectric Stacks
Назив: Electrical and Charge Trapping Properties of HfO2/Al2O3 Multilayer Dielectric Stacks
Аутори: Davidović, Vojkan S.  ; A. Paskaleva; D. Spassov; E. Guziewicz; T. Krajewski; Golubović, Snežana M. ; Đorić-Veljković, Snežana M.  ; Manić, Ivica Đ.  ; Danković, Danijel M.  ; Stojadinović, Ninoslav D. 
Година: 2017
Публикација: 2017 IEEE 30TH INTERNATIONAL CONFERENCE ON MICROELECTRONICS (MIEL)
ISSN: 2159-1660 Претражи идентификатор
Издавач: Niš, Srbija : IEEE Electron Devices Society
Тип резултата: Конференцијски рад
ISBN: 978-1-5386-2561-3 Претражи идентификатор
Колација: vol. 1 br. 1 str. 143-146
DOI: 10.1109/MIEL.2017.8190088
WoS-ID: 000427499000029
Scopus-ID: 2-s2.0-85043587212
URI: https://enauka.gov.rs/handle/123456789/379274
Пројекат: SASA [F-148]
Извор метаподатака: Migracija
М-категорија: 
Мп категорија ће бити приказана накнадно.

Алт метрика
Dimensions
Unpaywall

Google ScholarTM

Резултати на еНаука су заштићени ауторским правима и сва права су задржана, осим ако није другачије назначено.