Rezultati

eNauka >  Rezultati >  Electrical and Charge Trapping Properties of HfO2/Al2O3 Multilayer Dielectric Stacks
Naziv: Electrical and Charge Trapping Properties of HfO2/Al2O3 Multilayer Dielectric Stacks
Autori: Davidović, Vojkan S.  ; A. Paskaleva; D. Spassov; E. Guziewicz; T. Krajewski; Golubović, Snežana M. ; Đorić-Veljković, Snežana M.  ; Manić, Ivica Đ.  ; Danković, Danijel M.  ; Stojadinović, Ninoslav D. 
Godina: 2017
Publikacija: 2017 IEEE 30TH INTERNATIONAL CONFERENCE ON MICROELECTRONICS (MIEL)
ISSN: 2159-1660 Pretraži identifikator
Izdavač: Niš, Srbija : IEEE Electron Devices Society
Tip rezultata: Konferencijski rad
ISBN: 978-1-5386-2561-3 Pretraži identifikator
Kolacija: vol. 1 br. 1 str. 143-146
DOI: 10.1109/MIEL.2017.8190088
WoS-ID: 000427499000029
Scopus-ID: 2-s2.0-85043587212
URI: https://enauka.gov.rs/handle/123456789/379274
Projekat: SASA [F-148]
Izvor metapodataka: Migracija
M-kategorija: 
Mp kategorija će biti prikazana naknadno.

Alt metrika
Dimensions
Unpaywall

Google ScholarTM

Rezultati na eNauka su zaštićeni autorskim pravima i sva prava su zadržana, osim ako nije drugačije naznačeno.