Резултати
еНаука >
Резултати >
Determination of the Etching Rate from the Silicon Symmetry Properties by Extension of the Level Set Method
Назив: | Determination of the Etching Rate from the Silicon Symmetry Properties by Extension of the Level Set Method | Аутори: | Radmilović-Rađenović, Marija ![]() ![]() ![]() ![]() |
Година: | 2011 | Публикација: | International Review of Electrical Engineering / IREE | ISSN: | 1827-6660![]() ![]() |
Издавач: | Praise Worthy Prize | Тип резултата: | Научни чланак | Колација: | vol. 5 br. 3 str. 1045-1052 | WoS-ID: | 000280934900028 | URI: | https://enauka.gov.rs/handle/123456789/395157 | URL: | http://www.praiseworthyprize.org/jsm/?journal=iree | Извор метаподатака: | Migrirano iz RIS podataka | М-категорија: | 22M22 - Међународни часопис категорије M22 |
Резултати на еНаука су заштићени ауторским правима и сва права су задржана, осим ако није другачије назначено.