Rezultati
eNauka >
Rezultati >
Interface and oxide state behaviors of commercial n-channel power MOSFETs during high electric field stress and thermal annealing at 150 °C
| Naziv: | Interface and oxide state behaviors of commercial n-channel power MOSFETs during high electric field stress and thermal annealing at 150 °C | Autori: | Ristić, Goran |
Godina: | 2011 | Publikacija: | Semiconductor Science and Technology | ISSN: | 0268-1242 Semiconductor Science and Technology Pretraži identifikator |
Tip rezultata: | Naučni članak | Kolacija: | vol. 26 br. 8 str. 085019-085019 | DOI: | 10.1088/0268-1242/26/8/085019 | WoS-ID: | 000293895900020 | Scopus-ID: | 2-s2.0-80051960428 | URI: | https://enauka.gov.rs/handle/123456789/446508 | Izvor metapodataka: | Migrirano iz RIS podataka | M-kategorija: | 21M21 - Vodeći međunarodni časopis kategorije M21 |
Rezultati na eNauka su zaštićeni autorskim pravima i sva prava su zadržana, osim ako nije drugačije naznačeno.