Резултати

eNauka >  Rezultati >  Impact of γ Radiation on Charge Trapping Properties of Nanolaminated HfO2/Al2O3 ALD Stacks
Naziv: Impact of γ Radiation on Charge Trapping Properties of Nanolaminated HfO2/Al2O3 ALD Stacks
Autori: Spassov, Dentcho; Paskaleva, Albena; Davidović, Vojkan S.  ; Đorić-Veljković, Snežana M.  ; Stanković, Srboljub J.  ; Stojadinović, Ninoslav D. ; Ivanov, Tzvetan E.; Stanchev, T.
Godina: 2019
Publikacija: 2019 IEEE 31st International Conference on Microelectronics (MIEL)
ISSN: 2159-1660 Pretraži identifikator
Izdavač: Nis, Serbia : IEEE
Tip rezultata: Konferencijski rad
ISBN: 978-1-7281-3419-2 Pretraži identifikator
Kolacija: str. 59-62
DOI: 10.1109/MIEL.2019.8889600
WoS-ID: 000565455600008
Scopus-ID: 2-s2.0-85075337912
URI: https://enauka.gov.rs/handle/123456789/452893
https://vinar.vin.bg.ac.rs/handle/123456789/8658
https://ieeexplore.ieee.org/abstract/document/8889600
https://ieeexplore.ieee.org/document/8889600/
URL: https://ieeexplore.ieee.org/abstract/document/8889600
M-kategorija: 
Mp kategorija će biti prikazana naknadno.

2
SCOPUSTM
2
WEB OF SCIENCETM
Алт метрика
Dimensions
Unpaywall

Google ScholarTM

Резултати на еНаука су заштићени ауторским правима и сва права су задржана, осим ако није другачије назначено.