Резултати
eNauka >
Rezultati >
Impact of γ Radiation on Charge Trapping Properties of Nanolaminated HfO2/Al2O3 ALD Stacks
| Naziv: | Impact of γ Radiation on Charge Trapping Properties of Nanolaminated HfO2/Al2O3 ALD Stacks | Autori: | Spassov, Dentcho; Paskaleva, Albena; Davidović, Vojkan S. |
Godina: | 2019 | Publikacija: | 2019 IEEE 31st International Conference on Microelectronics (MIEL) | ISSN: | 2159-1660![]() Pretraži identifikator |
Izdavač: | Nis, Serbia : IEEE | Tip rezultata: | Konferencijski rad | ISBN: | 978-1-7281-3419-2 Pretraži identifikator |
Kolacija: | str. 59-62 | DOI: | 10.1109/MIEL.2019.8889600 | WoS-ID: | 000565455600008 | Scopus-ID: | 2-s2.0-85075337912 | URI: | https://enauka.gov.rs/handle/123456789/452893 https://vinar.vin.bg.ac.rs/handle/123456789/8658 https://ieeexplore.ieee.org/abstract/document/8889600 https://ieeexplore.ieee.org/document/8889600/ |
URL: | https://ieeexplore.ieee.org/abstract/document/8889600 | M-kategorija: | Mp kategorija će biti prikazana naknadno. |
Резултати на еНаука су заштићени ауторским правима и сва права су задржана, осим ако није другачије назначено.
