Impact of γ Radiation on Charge Trapping Properties of Nanolaminated HfO2/Al2O3 ALD Stacks

Results

Назив:	Impact of γ Radiation on Charge Trapping Properties of Nanolaminated HfO2/Al2O3 ALD Stacks
Аутори:	Spassov, Dentcho; Paskaleva, Albena; Davidović, Vojkan S. ; Đorić-Veljković, Snežana M. ; Stanković, Srboljub J. ; Stojadinović, Ninoslav D. ; Ivanov, Tzvetan E.; Stanchev, T.
Година:	2019
Публикација:	2019 IEEE 31st International Conference on Microelectronics (MIEL)
ISSN:	2159-1660 Претражи идентификатор
Издавач:	Nis, Serbia : IEEE
Тип резултата:	Конференцијски рад
ISBN:	978-1-7281-3419-2 Претражи идентификатор
Колација:	str. 59-62
DOI:	10.1109/MIEL.2019.8889600
WoS-ID:	000565455600008
Scopus-ID:	2-s2.0-85075337912
URI:	https://enauka.gov.rs/handle/123456789/452893 https://vinar.vin.bg.ac.rs/handle/123456789/8658 https://ieeexplore.ieee.org/abstract/document/8889600 https://ieeexplore.ieee.org/document/8889600/
URL:	https://ieeexplore.ieee.org/abstract/document/8889600
М-категорија:	Мп категорија ће бити приказана накнадно.

2
SCOPUS^TM

2
WEB OF SCIENCE^TM

Altmetric

Dimensions

Unpaywall

Google Scholar^TM