Резултати

eNauka >  Rezultati >  Treatment of SiO2 single crystal wafer by a Low Pressure Plasma Discharge
Naziv: Treatment of SiO2 single crystal wafer by a Low Pressure Plasma Discharge
Autori: Milosavljević, Vladimir  ; Popović, Dušan  ; A. Zekic; N. Macgearailt; S. Daniels
Godina: 2010
Publikacija: 37th EPS Conference on Plasma Physics/Europhysics conference abstracts
Izdavač: European Physical Society, Dublin, Ireland
Tip rezultata: Konferencijski rad
ISBN: 2-914771-62-2 Pretraži identifikator
Kolacija: vol. 34A str. P5.315-P5.315
URI: https://enauka.gov.rs/handle/123456789/469011
Izvor metapodataka: Migrirano iz RIS podataka
M-kategorija: 
Mp kategorija će biti prikazana naknadno.

Пронађи DOI


Google ScholarTM

Резултати на еНаука су заштићени ауторским правима и сва права су задржана, осим ако није другачије назначено.