Treatment of SiO2 single crystal wafer by a Low Pressure Plasma Discharge

Milosavljević, Vladimir; Popović, Dušan; A. Zekic; N. Macgearailt; S. Daniels

Резултати

еНаука > Резултати > Treatment of SiO2 single crystal wafer by a Low Pressure Plasma Discharge

Назив:	Treatment of SiO2 single crystal wafer by a Low Pressure Plasma Discharge
Аутори:	Milosavljević, Vladimir ; Popović, Dušan ; A. Zekic; N. Macgearailt; S. Daniels
Година:	2010
Публикација:	37th EPS Conference on Plasma Physics/Europhysics conference abstracts
Издавач:	European Physical Society, Dublin, Ireland
Тип резултата:	Конференцијски рад
ISBN:	2-914771-62-2 Претражи идентификатор
Колација:	vol. 34A str. P5.315-P5.315
URI:	https://enauka.gov.rs/handle/123456789/469011
Извор метаподатака:	Migrirano iz RIS podataka
М-категорија:	Мп категорија ће бити приказана накнадно.

Пронађи DOI

Проналажење DOI у сервису CrossRef-у на основу мета-података у запису. Приказаће се DOI (и метаподаци) чији се подаци највише поклапају. ОПРЕЗ - то не мора бити та публикација.

Google Scholar^TM

Резултати на еНаука су заштићени ауторским правима и сва права су задржана, осим ако није другачије назначено.