Резултати
еНаука >
Резултати >
MODELLING OF THE EFFECT OF RADICALS ON PLASMAS USED FOR ETCHING IN MICROELECTRONICS
Назив: | MODELLING OF THE EFFECT OF RADICALS ON PLASMAS USED FOR ETCHING IN MICROELECTRONICS | Аутори: | Nikitović, Željka ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() |
Година: | 2012 | Публикација: | The 3rd INTERNATIONAL CONFERENCE ON THE PHYSICS OF OPTICAL MATERIALS AND DEVICES ICOM 2012 | Издавач: | Vinča Institute of Nuclear Sciences, University of Belgrade (Serbia) and the Laboratoire de Chimie de la Matière Condensée de Paris (France). | Тип резултата: | Конференцијски рад | ISBN: | 978-86-7306-116-0![]() ![]() |
Колација: | str. 252-252 | URI: | https://enauka.gov.rs/handle/123456789/553727 | Извор метаподатака: | Migrirano iz RIS podataka | М-категорија: | Мп категорија ће бити приказана накнадно. |
Резултати на еНаука су заштићени ауторским правима и сва права су задржана, осим ако није другачије назначено.