MODELLING OF THE EFFECT OF RADICALS ON PLASMAS USED FOR ETCHING IN MICROELECTRONICS

Nikitović, Željka; Radmilović-Rađenović, Marija; Stojanović, Vladimir

Rezultati

eNauka > Rezultati > MODELLING OF THE EFFECT OF RADICALS ON PLASMAS USED FOR ETCHING IN MICROELECTRONICS

Naziv:	MODELLING OF THE EFFECT OF RADICALS ON PLASMAS USED FOR ETCHING IN MICROELECTRONICS
Autori:	Nikitović, Željka ; Radmilović-Rađenović, Marija ; Stojanović, Vladimir
Godina:	2012
Publikacija:	The 3rd INTERNATIONAL CONFERENCE ON THE PHYSICS OF OPTICAL MATERIALS AND DEVICES ICOM 2012
Izdavač:	Vinča Institute of Nuclear Sciences, University of Belgrade (Serbia) and the Laboratoire de Chimie de la Matière Condensée de Paris (France).
Tip rezultata:	Konferencijski rad
ISBN:	978-86-7306-116-0 Pretraži identifikator
Kolacija:	str. 252-252
URI:	https://enauka.gov.rs/handle/123456789/553727
Izvor metapodataka:	Migrirano iz RIS podataka
M-kategorija:	Mp kategorija će biti prikazana naknadno.

Pronađi DOI

Pronalaženje DOI u servisu CrossRef-u na osnovu meta-podataka u zapisu. Prikazaće se DOI (i metapodaci) čiji se podaci najviše poklapaju. OPREZ - to ne mora biti ta publikacija.

Google Scholar^TM

Rezultati na eNauka su zaštićeni autorskim pravima i sva prava su zadržana, osim ako nije drugačije naznačeno.