Rezultati

eNauka >  Rezultati >  Real-time plasma control in a dual-frequency, confined plasma etcher
Naziv: Real-time plasma control in a dual-frequency, confined plasma etcher
Autori: Milosavljević, Vladimir  ; Ellingboe, A. R.; Gaman, C.; Ringwood, J. V.
Godina: 2008
Publikacija: Journal of Applied Physics
ISSN: 0021-8979 Journal of Applied Physics Pretraži identifikator
Tip rezultata: Naučni članak
Kolacija: vol. 103 br. 8
DOI: 10.1063/1.2903137
WoS-ID: 000255456200027
Scopus-ID: 2-s2.0-43049151474
URI: https://physrep.ff.bg.ac.rs/handle/123456789/599
https://enauka.gov.rs/handle/123456789/606650
M-kategorija: 
21M21 - Vodeći međunarodni časopis kategorije M21

11
SCOPUSTM
8
OpenCitations
6
WEB OF SCIENCETM
Alt metrika
Dimensions
Unpaywall

Rezultati na eNauka su zaštićeni autorskim pravima i sva prava su zadržana, osim ako nije drugačije naznačeno.