The role of radicals in kinetics of plasma etchers in Ar/CF4 mixtures

Nikitovic, Z.; Stojanovic, V.; Petrovic, Z. Lj.

Rezultati

eNauka > Rezultati > The role of radicals in kinetics of plasma etchers in Ar/CF4 mixtures

Naziv:	The role of radicals in kinetics of plasma etchers in Ar/CF4 mixtures
Autori:	Nikitovic, Z. ; Stojanovic, V.; Petrovic, Z. Lj.
Godina:	2008
Publikacija:	The Tenth Yugoslav Materials Research Society Conference “YUCOMAT”, Book of Abstracts, Editor: Prof. dr Dragan P. Uskoković 8-12 September 2008, Herceg-Novi, Montenegro (2008) [P.S.B.16] 105
Tip rezultata:	Konferencijski rad
URI:	https://enauka.gov.rs/handle/123456789/782282
URL:	https://dais.sanu.ac.rs/bitstream/id/19959/122.pdf
Izvor metapodataka:	(Preuzeto iz ORCID-a) Nikitovic, Zeljka
M-kategorija:	Mp kategorija će biti prikazana naknadno.

Pronađi DOI

Pronalaženje DOI u servisu CrossRef-u na osnovu meta-podataka u zapisu. Prikazaće se DOI (i metapodaci) čiji se podaci najviše poklapaju. OPREZ - to ne mora biti ta publikacija.

Google Scholar^TM

Rezultati na eNauka su zaštićeni autorskim pravima i sva prava su zadržana, osim ako nije drugačije naznačeno.