Dynamic of the profile charging in two frequency plasma etching of SiO2

Radjenovic, B.; Radjenovic, Radmilovic M.; Petrovic, Z. Lj.; Nikitovic, Z.

Rezultati

eNauka > Rezultati > Dynamic of the profile charging in two frequency plasma etching of SiO2

Naziv:	Dynamic of the profile charging in two frequency plasma etching of SiO2
Autori:	Radjenovic, B.; Radjenovic, Radmilovic M. ; Petrovic, Z. Lj.; Nikitovic, Z.
Godina:	2007
Publikacija:	The Ninth Yugoslav Materials Research Society Conference “YUCOMAT”, Book of Abstracts, Editor: Prof. dr Dragan P. Uskoković 10-14 September 2007, Herceg-Novi, Montenegro (2007) [P.S.B.11] 109
Tip rezultata:	Konferencijski rad
URI:	https://enauka.gov.rs/handle/123456789/782285
URL:	https://dais.sanu.ac.rs/bitstream/id/19963/126.pdf
Izvor metapodataka:	(Preuzeto iz ORCID-a) Nikitovic, Zeljka
M-kategorija:	Mp kategorija će biti prikazana naknadno.

Pronađi DOI

Pronalaženje DOI u servisu CrossRef-u na osnovu meta-podataka u zapisu. Prikazaće se DOI (i metapodaci) čiji se podaci najviše poklapaju. OPREZ - to ne mora biti ta publikacija.

Google Scholar^TM

Rezultati na eNauka su zaštićeni autorskim pravima i sva prava su zadržana, osim ako nije drugačije naznačeno.