Modeling of the effect of radicals on plasmas used for etching in  microelectronics

Nikitovic, Zeljka; Radjenovic, Radmilovic Marija; Stojanovic, Vladimir; Petrović, Zoran

Резултати

еНаука > Резултати > Modeling of the effect of radicals on plasmas used for etching in microelectronics

Назив :	Modeling of the effect of radicals on plasmas used for etching in microelectronics
Аутори:	Nikitovic, Zeljka ; Radjenovic, Radmilovic Marija ; Stojanovic, Vladimir; Petrović, Zoran
Година:	2009
Публикација:	XXIX INTERNATIONAL CONFERENCE ON PHENOMENA IN IONIZED GASES, Cancún, México 12-17 July, 2009 ed. J. de Urquijo PA5-4, pp.61
Тип резултата:	Конференцијски рад
URI:	https://enauka.gov.rs/handle/123456789/789269
URL:	https://research.tue.nl/en/activities/29th-international-conference-on-phenomena-in-ionized-gases-icpig
Извор метаподатака:	(Preuzeto iz ORCID-a) Nikitovic, Zeljka
М-категорија:	Мп категорија ће бити приказана накнадно.

Пронађи DOI

Проналажење DOI у сервису CrossRef-у на основу мета-података у запису. Приказаће се DOI (и метаподаци) чији се подаци највише поклапају. ОПРЕЗ - то не мора бити та публикација.

Google Scholar^TM

Резултати на еНаука су заштићени ауторским правима и сва права су задржана, осим ако није другачије назначено.