Modeling of the effect of radicals on plasmas used for etching in  microelectronics

Nikitovic, Zeljka; Radjenovic, Radmilovic Marija; Stojanovic, Vladimir; Petrović, Zoran

Rezultati

eNauka > Rezultati > Modeling of the effect of radicals on plasmas used for etching in microelectronics

Naziv :	Modeling of the effect of radicals on plasmas used for etching in microelectronics
Autori:	Nikitovic, Zeljka ; Radjenovic, Radmilovic Marija ; Stojanovic, Vladimir; Petrović, Zoran
Godina:	2009
Publikacija:	XXIX INTERNATIONAL CONFERENCE ON PHENOMENA IN IONIZED GASES, Cancún, México 12-17 July, 2009 ed. J. de Urquijo PA5-4, pp.61
Tip rezultata:	Konferencijski rad
URI:	https://enauka.gov.rs/handle/123456789/789269
URL:	https://research.tue.nl/en/activities/29th-international-conference-on-phenomena-in-ionized-gases-icpig
Izvor metapodataka:	(Preuzeto iz ORCID-a) Nikitovic, Zeljka
M-kategorija:	Mp kategorija će biti prikazana naknadno.

Pronađi DOI

Pronalaženje DOI u servisu CrossRef-u na osnovu meta-podataka u zapisu. Prikazaće se DOI (i metapodaci) čiji se podaci najviše poklapaju. OPREZ - to ne mora biti ta publikacija.

Google Scholar^TM

Rezultati na eNauka su zaštićeni autorskim pravima i sva prava su zadržana, osim ako nije drugačije naznačeno.