Резултати

еНаука >  Резултати >  Influence of polysilicon film thickness on radiation response of advanced excimer laser annealed polycrystalline silicon thin film transistors
Назив: Influence of polysilicon film thickness on radiation response of advanced excimer laser annealed polycrystalline silicon thin film transistors
Аутори: Davidovic, Vojkan S; Kouvatsos, DN; Stojadinovic, Ninoslav D; Voutsas, AT
Година: 2007
Публикација: MICROELECTRONICS RELIABILITY
ISSN: 0026-2714 Microelectronics Reliability Претражи идентификатор
Тип резултата: Научни чланак
Колација: vol. 47 br. 9-11 str. 1841-1845
DOI: 10.1016/j.microrel.2007.07.025
WoS-ID: 000250604600100
Scopus-ID: 2-s2.0-34548853691
URI: https://enauka.gov.rs/handle/123456789/798706
Извор метаподатака: (Preuzeto iz Nasi u WoS)
М-категорија: 
22M22 - Рад у истакнутом међ. часопису

13
SCOPUSTM
9
OpenCitations
10
WEB OF SCIENCETM
Алт метрика
Dimensions

Пронађи DOI

Unpaywall

Резултати на еНаука су заштићени ауторским правима и сва права су задржана, осим ако није другачије назначено.