Results

eNauka >  Rezultati >  Influence of polysilicon film thickness on radiation response of advanced excimer laser annealed polycrystalline silicon thin film transistors
Naziv: Influence of polysilicon film thickness on radiation response of advanced excimer laser annealed polycrystalline silicon thin film transistors
Autori: Davidovic, Vojkan S  ; Kouvatsos, DN; Stojadinovic, Ninoslav D; Voutsas, AT
Godina: 2007
Publikacija: MICROELECTRONICS RELIABILITY
ISSN: 0026-2714 Microelectronics Reliability Pretraži identifikator
Tip rezultata: Naučni članak
Kolacija: vol. 47 br. 9-11 str. 1841-1845
DOI: 10.1016/j.microrel.2007.07.025
WoS-ID: 000250604600100
Scopus-ID: 2-s2.0-34548853691
URI: https://enauka.gov.rs/handle/123456789/798706
Izvor metapodataka: (Preuzeto iz Nasi u WoS)
M-kategorija: 
22M22 - Međunarodni časopis kategorije M22

16
SCOPUSTM
9
OpenCitations
11
WEB OF SCIENCETM
Altmetric
Dimensions
Unpaywall

Items in eNauka are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.