Резултати

еНаука >  Резултати >  On temperature coefficient of resistance of boron-doped SiGe films deposited by sputtering
Назив: On temperature coefficient of resistance of boron-doped SiGe films deposited by sputtering
Аутори: Jelenkovic, Emil V; Jevtic, Milan M; Tong, KY; Pang, GKH; Cheung, WY; Jha, Shrawan K
Година: 2007
Публикација: MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING
ISSN: 1369-8001 Materials Science in Semiconductor Processing Претражи идентификатор
Тип резултата: Научни чланак
Колација: vol. 10 br. 4-5 str. 143-149
DOI: 10.1016/j.mssp.2007.08.001
WoS-ID: 000255256000002
Scopus-ID: 2-s2.0-40949141104
URI: https://enauka.gov.rs/handle/123456789/805004
Извор метаподатака: (Preuzeto iz Nasi u WoS)
М-категорија: 
21M21 - Водећи међународни часопис категорије M21

1
SCOPUSTM
1
WEB OF SCIENCETM
Алт метрика
Dimensions
Unpaywall

Резултати на еНаука су заштићени ауторским правима и сва права су задржана, осим ако није другачије назначено.