Резултати

еНаука >  Резултати >  Stress-induced leakage currents in thin silicon dioxide films
Назив: Stress-induced leakage currents in thin silicon dioxide films
Аутори: Pesić, Biljana ; Vračar, Ljubomir M  ; Stojadinović, Ninoslav D ; Pecovska-Đorđević, M; Novkovski, N
Година: 2003
Публикација: JOURNAL OF MATERIALS SCIENCE-MATERIALS IN ELECTRONICS
ISSN: 0957-4522 Journal of Materials Science: Materials in Electronics Претражи идентификатор
Тип резултата: Научни чланак
Колација: vol. 14 br. 10/12 str. 805-807
DOI: 10.1023/A:1026169624327
WoS-ID: 000185962400065
Scopus-ID: 2-s2.0-0242367438
URI: https://enauka.gov.rs/handle/123456789/807664
Извор метаподатака: (Preuzeto iz Nasi u WoS)
М-категорија: 
22M22 - Међународни часопис категорије M22

Алт метрика
Dimensions
Unpaywall

Резултати на еНаука су заштићени ауторским правима и сва права су задржана, осим ако није другачије назначено.