Резултати

еНаука >  Резултати >  Modeling of plasmas for dry etching in ULSI technologies
Назив: Modeling of plasmas for dry etching in ULSI technologies
Аутори: Petrovic, Z.Lj.; Sakadzic, S.; Raspopović, Zoran  ; Makabe, T.
Година: 1999
Публикација: 2000 22nd International Conference on Microelectronics, MIEL 2000 - Proceedings
Тип резултата: Конференцијски рад
ISBN: 0780352351, 978-078035235-3 ИСБН није валидан Претражи идентификатор
Колација: vol. 2 str. 433-436
DOI: 10.1109/icmel.2000.838726
Scopus-ID: 2-s2.0-0033297973
URI: https://enauka.gov.rs/handle/123456789/852761
URL: http://www.scopus.com/inward/record.url?eid=2-s2.0-0033297973&partnerID=MN8TOARS
Извор метаподатака: (Preuzeto iz ORCID-a) Raspopović, Zoran
М-категорија: 
Мп категорија ће бити приказана накнадно.

Алт метрика
Dimensions
Unpaywall

Google ScholarTM

Резултати на еНаука су заштићени ауторским правима и сва права су задржана, осим ако није другачије назначено.