Rezultati

eNauka >  Rezultati >  Modeling of plasmas for dry etching in ULSI technologies
Naziv: Modeling of plasmas for dry etching in ULSI technologies
Autori: Petrovic, Z.Lj.; Sakadzic, S.; Raspopović, Zoran  ; Makabe, T.
Godina: 1999
Publikacija: 2000 22nd International Conference on Microelectronics, MIEL 2000 - Proceedings
Tip rezultata: Konferencijski rad
ISBN: 0780352351, 978-078035235-3 ИСБН није валидан Pretraži identifikator
Kolacija: vol. 2 str. 433-436
DOI: 10.1109/icmel.2000.838726
Scopus-ID: 2-s2.0-0033297973
URI: https://enauka.gov.rs/handle/123456789/852761
URL: http://www.scopus.com/inward/record.url?eid=2-s2.0-0033297973&partnerID=MN8TOARS
Izvor metapodataka: (Preuzeto iz ORCID-a) Raspopović, Zoran
M-kategorija: 
Mp kategorija će biti prikazana naknadno.

Alt metrika
Dimensions
Unpaywall

Google ScholarTM

Rezultati na eNauka su zaštićeni autorskim pravima i sva prava su zadržana, osim ako nije drugačije naznačeno.