Rezultati

eNauka >  Results >  Modeling of plasmas for dry etching in ULSI technologies
Title: Modeling of plasmas for dry etching in ULSI technologies
Authors: Petrovic, Z.Lj.; Sakadzic, S.; Raspopović, Zoran  ; Makabe, T.
Issue Date: 1999
Publication: 2000 22nd International Conference on Microelectronics, MIEL 2000 - Proceedings
Type: Conference Paper
ISBN: 0780352351, 978-078035235-3 ИСБН није валидан Search Idenfier
Collation: vol. 2 str. 433-436
DOI: 10.1109/icmel.2000.838726
Scopus-ID: 2-s2.0-0033297973
URI: https://enauka.gov.rs/handle/123456789/852761
URL: http://www.scopus.com/inward/record.url?eid=2-s2.0-0033297973&partnerID=MN8TOARS
Metadata source: (Preuzeto iz ORCID-a) Raspopović, Zoran
M-category: 
Mp. category will be shown later

Alt metrika
Dimensions
Unpaywall

Google ScholarTM

Rezultati na eNauka su zaštićeni autorskim pravima i sva prava su zadržana, osim ako nije drugačije naznačeno.