Резултати

еНаука >  Резултати >  A new multi-layer ion implantation model for process simulation
Назив: A new multi-layer ion implantation model for process simulation
Аутори: Pantić, Dragan  ; Miljković, S.; Stojadinović, Ninoslav 
Година: 1989
Публикација: Microelectronics Journal
ISSN: 0026-2692 Microelectronics Journal Претражи идентификатор
Издавач: Elsevier {BV}
Тип резултата: Научни чланак
Колација: vol. 20 br. 6 str. 5-10
DOI: 10.1016/0026-2692(89)90062-1
Scopus-ID: 2-s2.0-0024765845
URI: https://enauka.gov.rs/handle/123456789/880478
Извор метаподатака: (Preuzeto iz ORCID-a) Pantić, Dragan
М-категорија: 
Мп категорија ће бити приказана накнадно.

Алт метрика
Dimensions
Unpaywall

Резултати на еНаука су заштићени ауторским правима и сва права су задржана, осим ако није другачије назначено.