Rezultati

eNauka >  Results >  A new multi-layer ion implantation model for process simulation
Title: A new multi-layer ion implantation model for process simulation
Authors: Pantić, Dragan  ; Miljković, S.; Stojadinović, Ninoslav 
Issue Date: 1989
Publication: Microelectronics Journal
ISSN: 0026-2692 Microelectronics Journal Search Idenfier
Publisher: Elsevier {BV}
Type: Article
Collation: vol. 20 br. 6 str. 5-10
DOI: 10.1016/0026-2692(89)90062-1
Scopus-ID: 2-s2.0-0024765845
URI: https://enauka.gov.rs/handle/123456789/880478
Metadata source: (Preuzeto iz ORCID-a) Pantić, Dragan
M-category: 
Mp. category will be shown later

Alt metrika
Dimensions
Unpaywall

Rezultati na eNauka su zaštićeni autorskim pravima i sva prava su zadržana, osim ako nije drugačije naznačeno.