Rezultati

eNauka >  Rezultati >  A new multi-layer ion implantation model for process simulation
Naziv: A new multi-layer ion implantation model for process simulation
Autori: Pantić, Dragan  ; Miljković, S.; Stojadinović, Ninoslav 
Godina: 1989
Publikacija: Microelectronics Journal
ISSN: 0026-2692 Microelectronics Journal Pretraži identifikator
Izdavač: Elsevier {BV}
Tip rezultata: Naučni članak
Kolacija: vol. 20 br. 6 str. 5-10
DOI: 10.1016/0026-2692(89)90062-1
Scopus-ID: 2-s2.0-0024765845
URI: https://enauka.gov.rs/handle/123456789/880478
Izvor metapodataka: (Preuzeto iz ORCID-a) Pantić, Dragan
M-kategorija: 
Mp kategorija će biti prikazana naknadno.

Alt metrika
Dimensions
Unpaywall

Rezultati na eNauka su zaštićeni autorskim pravima i sva prava su zadržana, osim ako nije drugačije naznačeno.