Резултати
eNauka >
Rezultati >
Characterization of the Electric Breakdowns in Metal-Insulator-Silicon Capacitor Structures with HfO2/Al2O3 Layers for Non-Volatile Memory Applications
| Naziv: | Characterization of the Electric Breakdowns in Metal-Insulator-Silicon Capacitor Structures with HfO2/Al2O3 Layers for Non-Volatile Memory Applications | Autori: | Spassov, Dentcho; Paskaleva, Albena; Guziewicz, Elzbieta; Ivanov, Tz.; Stanchev, T.; Davidović, Vojkan   ; Veljković, Sandra ; Mitrović, Nikola ; Danković, Danijel |
Godina: | 2023 | Publikacija: | 2023 IEEE 33rd International Conference on Microelectronics (MIEL) | Tip rezultata: | Konferencijski rad | ISBN: | 979-8-3503-4776-0  Pretraži identifikator |
Kolacija: | str. 1-4 | DOI: | 10.1109/MIEL58498.2023.10315813 | WoS-ID: | 001701718400010 | Scopus-ID: | 2-s2.0-85183081707 | URI: | https://enauka.gov.rs/handle/123456789/889208 | Izvor metapodataka: | (Preuzeto iz CrossRef-a) Danković, Danijel | M-kategorija: | Mp kategorija će biti prikazana naknadno. |
Резултати на еНаука су заштићени ауторским правима и сва права су задржана, осим ако није другачије назначено.