Резултати
еНаука >
Резултати >
Characterization of the Electric Breakdowns in Metal-Insulator-Silicon Capacitor Structures with HfO2/Al2O3 Layers for Non-Volatile Memory Applications
| Назив: | Characterization of the Electric Breakdowns in Metal-Insulator-Silicon Capacitor Structures with HfO2/Al2O3 Layers for Non-Volatile Memory Applications | Аутори: | Spassov, Dentcho; Paskaleva, Albena; Guziewicz, Elzbieta; Ivanov, Tz.; Stanchev, T.; Davidović, Vojkan   ; Veljković, Sandra ; Mitrović, Nikola ; Danković, Danijel |
Година: | 2023 | Публикација: | 2023 IEEE 33rd International Conference on Microelectronics (MIEL) | Тип резултата: | Конференцијски рад | ISBN: | 979-8-3503-4776-0  Претражи идентификатор |
Колација: | str. 1-4 | DOI: | 10.1109/MIEL58498.2023.10315813 | WoS-ID: | 001701718400010 | Scopus-ID: | 2-s2.0-85183081707 | URI: | https://enauka.gov.rs/handle/123456789/889208 | Извор метаподатака: | (Preuzeto iz CrossRef-a) Danković, Danijel | М-категорија: | Мп категорија ће бити приказана накнадно. |
Резултати на еНаука су заштићени ауторским правима и сва права су задржана, осим ако није другачије назначено.