Резултати

еНаука >  Резултати >  Stoichiometric SiO2 thin films deposited by reactive sputtering
Назив: Stoichiometric SiO2 thin films deposited by reactive sputtering
Аутори: Radović, Ivan  ; Serruys, Y.; Limoge, Y.; Bibić, Nataša M. ; Poissonnet, S.; Jaoul, O.; Mitrić, Miodrag  ; Romčević, Nebojša Ž.  ; Milosavljević, Momir  
Година: 2007
Публикација: Materials Chemistry and Physics
ISSN: 0254-0584 Materials Chemistry and Physics Претражи идентификатор
Тип резултата: Научни чланак
Колација: vol. 104 br. 1 str. 172-176
DOI: 10.1016/j.matchemphys.2007.03.006
WoS-ID: 000247862200030
Scopus-ID: 2-s2.0-34249847586
URI: https://plus.cobiss.net/cobiss/sr/sr/bib/1025950645#izum.si
https://vinar.vin.bg.ac.rs/handle/123456789/3208
https://enauka.gov.rs/handle/123456789/244282
Пројекат: Ministry of Foreign Affairs (in the frame of the COCOP) of the Republic of France
French Atomic Energy Commission (CEA)
Ministry of Science and Environmental Protection of the Republic of Serbia
М-категорија: 
21M21 - Водећи међународни часопис категорије M21

3
SCOPUSTM
3
OpenCitations
3
WEB OF SCIENCETM
Алт метрика
Dimensions
Unpaywall

Резултати на еНаука су заштићени ауторским правима и сва права су задржана, осим ако није другачије назначено.