Резултати

eNauka >  Rezultati >  Stoichiometric SiO2 thin films deposited by reactive sputtering
Naziv: Stoichiometric SiO2 thin films deposited by reactive sputtering
Autori: Radović, Ivan  ; Serruys, Y.; Limoge, Y.; Bibić, Nataša M. ; Poissonnet, S.; Jaoul, O.; Mitrić, Miodrag  ; Romčević, Nebojša Ž.  ; Milosavljević, Momir  
Godina: 2007
Publikacija: Materials Chemistry and Physics
ISSN: 0254-0584 Materials Chemistry and Physics Pretraži identifikator
Tip rezultata: Naučni članak
Kolacija: vol. 104 br. 1 str. 172-176
DOI: 10.1016/j.matchemphys.2007.03.006
WoS-ID: 000247862200030
Scopus-ID: 2-s2.0-34249847586
URI: https://plus.cobiss.net/cobiss/sr/sr/bib/1025950645#izum.si
https://vinar.vin.bg.ac.rs/handle/123456789/3208
https://enauka.gov.rs/handle/123456789/244282
Projekat: Ministry of Foreign Affairs (in the frame of the COCOP) of the Republic of France
French Atomic Energy Commission (CEA)
Ministry of Science and Environmental Protection of the Republic of Serbia
M-kategorija: 
21M21 - Vodeći međunarodni časopis kategorije M21

3
SCOPUSTM
3
OpenCitations
3
WEB OF SCIENCETM
Алт метрика
Dimensions
Unpaywall

Резултати на еНаука су заштићени ауторским правима и сва права су задржана, осим ако није другачије назначено.