Results
| Назив: | Stoichiometric SiO2 thin films deposited by reactive sputtering | Аутори: | Radović, Ivan |
Година: | 2007 | Публикација: | Materials Chemistry and Physics | ISSN: | 0254-0584 Materials Chemistry and Physics Претражи идентификатор |
Тип резултата: | Научни чланак | Колација: | vol. 104 br. 1 str. 172-176 | DOI: | 10.1016/j.matchemphys.2007.03.006 | WoS-ID: | 000247862200030 | Scopus-ID: | 2-s2.0-34249847586 | URI: | https://plus.cobiss.net/cobiss/sr/sr/bib/1025950645#izum.si https://vinar.vin.bg.ac.rs/handle/123456789/3208 https://enauka.gov.rs/handle/123456789/244282 |
Пројекат: | Ministry of Foreign Affairs (in the frame of the COCOP) of the Republic of France French Atomic Energy Commission (CEA) Ministry of Science and Environmental Protection of the Republic of Serbia |
М-категорија: | 21M21 - Водећи међународни часопис категорије M21 |
Items in eNauka are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.