Резултати
еНаука >
Резултати >
Modelling of kinetics of creation and passivation of interface traps in metal-oxide-semiconductor transistors during postirradiation annealing
![](https://cdn3.iconfinder.com/data/icons/flat-actions-icons-9/512/Tick_Mark-256.png)
Назив: | Modelling of kinetics of creation and passivation of interface traps in metal-oxide-semiconductor transistors during postirradiation annealing | Аутори: | Ristić, Goran ![]() ![]() ![]() |
Година: | 1998 | Публикација: | Journal of Applied Physics | ISSN: | 1089-7550![]() ![]() |
Тип резултата: | Научни чланак | Колација: | vol. 83 br. 6 str. 2994-3000 | DOI: | 10.1063/1.367055 | WoS-ID: | 000072640700018 | Scopus-ID: | 2-s2.0-0032027260 | URI: | https://enauka.gov.rs/handle/123456789/881628 | Извор метаподатака: | (Preuzeto iz ORCID-a) Ristić, Goran | М-категорија: | 21M21 - Рад у врхунском међ. часопису |
![](/image/scopus.png)
SCOPUSTM
![](/image/wos.png)
WEB OF SCIENCETM
Алт метрика
Dimensions
Unpaywall
Резултати на еНаука су заштићени ауторским правима и сва права су задржана, осим ако није другачије назначено.